全自动接近式掩模光刻机AT-MA是面向12英寸及以下中小基底的掩模曝光机，满足先进封装，化合物半导体，功率器件，LED，传感器和MEMS等领域光刻工艺需求。

半自动双面套刻光刻机SAT-MA是高精度双面套刻接触接近式掩模曝光机，面向12英寸及以下的中小基底光刻领域，满足先进封装、化合物半导体、MEMS等领域双面套刻对位光刻工艺需求。

光伏电镀铜曝光机PEC-MA1101是一款生产HJT电池的掩膜光刻设备，用于生产更细的铜栅替代银浆丝网印刷线路，提高转换效能并降低成本。
铜电镀类似于半导体工艺，其利用金属化铜电极代替原有栅极，实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层，再涂上感光胶，采用曝光、显影处理，然后用电镀工艺加厚种子层，随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点，具备较大的优势。